Kann in bestehende MBRAUN Gloveboxen integriert werden (durch Vorkammer).

• Für Substrate bis zu 50 x 50 mm Wafer
• Kompakte Bauweise
• Wirtschaftliche Lösung
• Kurze Lieferzeit
• Schnelle und einfache Installation
• Einfaches Nachrüsten in bestehende Gloveboxen

• Integriertes System der Glovebox
• Kompakte und kostengünstige Lösung
• Einfaches Konfigurationsdesign
• Co-Deposition
• Gleichmäßigkeit bis zu +/-3 % (bei spezifischem Geometriedesign bis zu +/1 %)
• Zwei Standardgrößen: PROvap 4G und PROvap 5G
• Bis zu 8 Depositionsquellen möglich
• Substratgröße bis 100x100 mm oder Durchmesser 100 mm (4") für PROvap 4G
• Substratgröße bis 150x150 mm oder Durchmesser 150 mm (6") für PROvap 5G

• Eigenständiges System
• Kompakte und kostengünstige Lösung
• Einfaches Konfigurationsdesign
• Co-Deposition ist möglich
• Gleichmäßigkeit bis zu +/-3 % (bei spezifischem Geometriedesign bis zu +/1 %)
• Zwei Standardgrößen: UNIvap 4S und UNIvap 5S
• Bis zu 8 Depositionsquellen möglich
• Substratgröße bis 100x100 mm oder Durchmesser 100 mm (4") für UNIvap 4S
• Substratgröße bis 150x150 mm oder Durchmesser 150 mm (6") für UNIvap 5S

Die OPTIvap-Serie ist die aktuelle High-End-Lösung in unserer Depositionswerkzeugreihe. Konzipiert für die Anforderungen der spezialisierten Forschung bis hin zur Pilotproduktion, finden diese Werkzeuge häufigen Einsatz in Industrielabors und modernsten Universitäten auf der ganzen Welt.

• Flexibles, modulares System
• Stand-alone (S) oder Glovebox integriert (G)
• Baustein für Cluster-Tool
• Multi-Substrat-& Multi-Masken-Prozesse
• Standard Einheitlichkeit: +/- 3 % (bei spezifischer Geometriegestaltung bis zu +/1 %)
• Substratgröße bis 150x150 mm oder Durchmesser 150 mm (6") für OPTIvap 4
• Substratgröße bis 200x200 mm oder Durchmesser 280 mm (8") für OPTIvap 6

(nbsp)

Anwendungen:

• Komplexe Multilayer-Bauelemente (OLED,OPV)
• Optische Schichten
• Halbleiter, PV

Mini-PVD-Kammer 100% speziell für Perowskite

• Kann in bestehende MBRAUN Gloveboxen integriert werden (durch Vorkammer)
• Kompakte Bauweise
• Für Untergründe bis 50x50 mm
• Bis zu 4 Quellen
• Schichtgleichmäßigkeit< +/-5 %
• Wirtschaftliche Lösung
• Kurze Lieferzeit
• Einfaches Nachrüsten in bestehende Gloveboxen

Speziell entwickelt für Perowskites

• Ideales Werkzeug für effiziente Forschung & Entwicklung
• Spezielles Systemdesign
• Spezielle Vorläuferquelle
  • Hohe Stabilität bei niedrigen Temperaturen
• Stabiler und definierter Depositionsprozess
  • Hochvakuumbedingungen
  • Geringes Übersprechen
• Hohe Wiederholgenauigkeit
• Materialverträglichkeit für eine sehr lange Lebensdauer
• Patent angemeldet