Dépôt par voie humide sous atmosphère contrôlée

Les procédés de dépôt par voie humide jouent un rôle essentiel dans le développement et la fabrication de couches fonctionnelles modernes, notamment pour les batteries, les cellules photovoltaïques, les cellules à base de pérovskite, les OLED et les semi-conducteurs. Ils consistent à déposer avec précision des matériaux liquides, des solutions, des encres ou des pâtes sur un substrat avant leur séchage ou leur traitement ultérieur.

Lors du traitement de matériaux sensibles, l'environnement de procédé est un facteur déterminant. L'humidité, l'oxygène ou d'autres contaminants, tels que les particules, peuvent fortement influencer la qualité des couches, leur reproductibilité ainsi que la stabilité des matériaux.

Nous vous accompagnons dans la mise en place des conditions de procédé les mieux adaptées à votre application. Des atmosphères inertes avec des teneurs en O₂ et H₂O inférieures à 1 ppm, associées si nécessaire à une technologie de flux laminaire pour la réduction des particules, ouvrent de nouvelles perspectives pour le développement et l'optimisation de vos procédés.

En tant qu'intégrateur de procédés, MBRAUN ne se contente pas d'associer une technologie de dépôt à une atmosphère inerte. Nous concevons une solution globale optimisée couvrant l'ensemble de votre chaîne de procédé : préparation des matériaux, manutention, dépôt, séchage, puis étapes en aval telles que le dépôt sous vide, les procédés d'analyse ou encore l'encapsulation.

Vous bénéficiez ainsi d'une chaîne de procédé fermée, stable et parfaitement adaptée à votre application, à vos matériaux et à vos exigences de production.