Optionen & Upgrades für Vakuumbeschichtungssysteme

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Mit einem Arbeitsbereich von bis zu 800 °C und einer Regelgenauigkeit von ±0,1 K gewährleisten die LTE-Quellen höchste Prozessstabilität und exzellente Reproduzierbarkeit. Duch die Verfügbarkeit in verschiedenen Standardgrößen kann die Systemauslegung auf die erforderlichen Schichtdicken optimiert werden und reicht von wenigen Nanometern bis hin zu mehreren Mikrometern bei einer exzellenten Schichthomogenität. Für Anwendungen mit höherem Materialbedarf sind auf Anfrage auch Ausführungen mit 100 cm³ oder mehr verfügbar.

Dank ihrer präzisen Temperaturführung und flexiblen Skalierbarkeit eignen sich die LTE-Quellen hervorragend für Anwendungen in den Bereichen OLED, Solar und organische Elektronik. Auch für Batterieprozesse, beispielsweise in Verbindung mit Lithium, bieten sie eine zuverlässige und effiziente Lösung für hochwertige Beschichtungen.

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Durch sein spezielles Design lassen sich neben organischen Materialien auch Metalle wie Aluminium oder Silber zuverlässig und reproduzierbar verdampfen. Mit einem Temperaturbereich von bis zu 1200 °C und einer hohen Regelgenauigkeit von ±0,1 K deckt MBraun ein breites Anwendungsspektrum im Bereich moderner Beschichtungsprozesse ab. Für besonders anspruchsvolle Anwendungen sind auf Anfrage sogar Prozesstemperaturen von bis zu 1400 °C realisierbar.

Die HTE-Quellen vereinen hohe thermische Stabilität mit präziser Prozesskontrolle und eignen sich ideal für Anwendungen in der OLED-, Solar- und Dünnschichttechnologie sowie für weitere Prozesse mit erhöhten Temperaturanforderungen.

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Der THE kann flexibel mit Schiffchen aus Molybdän, Wolfram oder Tantal, sowie mit einer Vielzahl an anderen Heizern ausgestattet werden. Alternativ stehen speziell entwickelte keramische Heizelemente zur Verfügung, die erhebliche Vorteile bei der Verdampfung von Materialien wie Aluminium zeigen.

Mit einer Leistung von bis zu 2 kW und der optimal abgestimmten Quellengeometrie eignet sich der THE ideal für die zuverlässige Verdampfung von Metallen bei Temperaturen von bis zu 1800 °C. Damit bietet der THE eine leistungsstarke und vielseitige Lösung für anspruchsvolle Dünnschicht- und Metallisierungsprozesse in Forschung, Entwicklung und Produktion.

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Je nach Anwendung können sowohl metallische als auch nichtmetallische Targets mittels DC- oder RF-Sputtering zuverlässig abgeschieden werden. Mit Leistungsversorgungen von bis zu 1500 W eignen sich die Systeme sowohl für auf die Targetgröße angepasste Hochratenprozesse als auch für Anwendungen mit gebondeten Targets. Auf Wunsch können zudem Reaktivgasprozesse integriert werden, wodurch sich beispielsweise Oxide, Nitride oder andere funktionale Schichten gezielt herstellen lassen.

Magnetron-Sputtern überzeugt dabei nicht nur durch seine hohe Prozessstabilität und Vielseitigkeit, sondern auch durch seine besonders anwenderfreundliche Prozessführung. Bereits mit geringem Schulungsaufwand lassen sich schnell hochwertige und reproduzierbare Beschichtungsergebnisse erzielen – ideal für Forschung, Entwicklung und industrielle Anwendungen gleichermaßen.

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Die Elektronenstrahlverdampfung ist eine zentrale Beschichtungstechnologie für PVD-Prozesse, insbesondere bei hochschmelzenden Materialien. Sie eignet sich sowohl für metallische Werkstoffe als auch für keramische Materialien wie Silizium und ermöglicht präzise sowie homogene Dünnschichtabscheidungen. Durch die ratengeregelte Prozessführung lassen sich reproduzierbare und wiederholgenaue Ergebnisse erzielen. Ein weiterer Vorteil ist die Möglichkeit, verschiedene Materialien sequenziell zu beschichten, ohne das Vakuum zu brechen oder Materialwechsel manuell durchführen zu müssen. Mit Leistungen von bis zu 6 kW und flexibel wählbarer Pocket-Anzahl lassen sich die Systeme optimal an unterschiedliche Prozessanforderungen anpassen und bis in den Pilotserienbereich skalieren.

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Durch unser Transfersystem werden Prozesszeiten deutlich reduziert und gleichzeitig unterschiedliche Maskenkonfigurationen flexibel kombiniert. Das System ist ideal für Forschungsanwendungen, bei denen identische Schichtsysteme in variierenden Strukturen untersucht werden, ebenso wie für die reproduzierbare Abarbeitung etablierter Prozesse im Rahmen von Pilotserien.

Die integrierte SPS-Steuerung sorgt dabei für eine präzise, automatisierte Prozessführung und erfüllt höchste Anforderungen an Flexibilität, Reproduzierbarkeit und Effizienz.

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Unsere PVD-Systeme können mit frei kombinierbaren Heizsystemen zur gezielten Temperaturbehandlung ausgestattet werden. Für Annealing- und Tempering-Prozesse stehen sowohl Kontakt- als auch Strahlungsheizungen mit Temperaturen von bis zu 1000 °C zur Verfügung, um unterschiedliche Prozessanforderungen optimal abzubilden. Darüber hinaus sind auf Anfrage kombinierte Substratheiz- und Kühlsysteme bis zu -40 °C realisierbar, um beispielsweise Re-Verdampfungseffekte im Zusammenspiel mit Hochtemperaturquellen zu minimieren. In Kombination mit einem In-Kammer-Transfersystem ergeben sich zusätzliche Vorteile hinsichtlich Prozesszeit und Flexibilität – insbesondere im Bereich Forschung & Entwicklung, wo reproduzierbare Proben und Muster effizient sowie unter variierenden Prozessbedingungen hergestellt werden können.

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Mit Hilfe des Substrate Wedges lassen sich unterschiedliche Schichtkombinationen gezielt auf einem einzigen Substrat realisieren. Durch die kontrollierte Freigabe definierter Beschichtungsbereiche können verschiedene Material- und Prozessparameter effizient untersucht werden – ein entscheidender Vorteil insbesondere im Bereich Forschung & Entwicklung sowie der Schichtanalytik.

Der Wedge ist sowohl als Single-Blade- als auch als Dual-Blade-Variante verfügbar. Mit dem Single-Blade Wedge können Materialien stufenweise auf dem Substrat abgeschieden werden, um gezielte Schichtgradienten oder Variationen abzubilden. Der Dual-Blade Wedge ermöglicht hingegen die selektive Beschichtung einzelner Bereiche, sodass mehrere unterschiedliche Schichtsysteme auf einem einzigen Substrat dargestellt werden können – ohne Substratwechsel oder zusätzliche Prozessunterbrechungen. Dadurch lassen sich Schichtsysteme besonders effizient evaluieren und vergleichen.

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Für besonders empfindliche Materialien können die Maskencarrier als Nicht-Kontaktmasken ausgeführt werden, um mechanische Belastungen und potenzielle Beschädigungen der Substrate zu vermeiden. In Kombination mit Heizsystemen sorgen optionale Heatspreader zudem für eine optimierte Temperaturverteilung und eine verbesserte Homogenität während des Beschichtungsprozesses.

Auch für anspruchsvolle Prozesse mit korrosiven Materialien bieten wir maßgeschneiderte Lösungen: Die Carrier können wahlweise aus V4A gefertigt oder mit speziellen Antikorrosionsbeschichtungen ausgestattet werden. So entstehen langlebige, robuste und präzise abgestimmte Komponenten für höchste Anforderungen in Forschung, Entwicklung und Produktion.